第640章 山寨机之父,要换人了!(2/2)

今后的市场拓展方向在哪里,基本上已经明确下来了。

这个局面,让一些关注南山设备的人,也算是松了一口气。

“曹总,我们的蚀刻机短时间内要出口估计也比较困难。”

“不过我想到了一个突围的办法。”

尹志强是属于那种对手越强大,就越有干劲的技术狂人。

眼下芯片设备联盟面对的敌人,显然是异常强大的。

try{ggauto();} catch(ex){}

“什么想法?”

曹阳倒是很想知道尹志强这个技术专家能够给出什么好的提议。

“只要我们把蚀刻机的技术做到世界最先进,还把成本做到行业最低,那么其他的芯片厂家就会被动的找我们去购买产品。”

“要不然他们就没有办法使用最先进的蚀刻机,更加没有办法享受到更低的成本。”

尹志强的这个说法,把曹阳给说愣了。

还能这样子破局?

不过听起来好像也不是一点道理都没有啊。

你不买我的设备,没关系,南山半导体买就行。

然后借着这个机会我把我的设备的技术水平干到世界最强。

比如蚀刻机,现在主流的只需要能够完成28纳米的工艺就行了。

我直接把7纳米,甚至5纳米、3纳米的加工工艺给干出来了。

然后成本还只有你能够加工28纳米的蚀刻机的一半!

这个时候你买不买?

不买?

那指不定别人就反超你咯!

买?

那这个僵局不就是自然而然的打破了?

“尹总,你的这个方向完全是可行的!”

“我们南山设备下一步除了推进28纳米工艺的成熟度之外,就是研发14纳米的生产工艺设备。”

“如果蚀刻机能够进一步的做到比14纳米更加先进,那么就算是初步完成了你说的目标。”

成本方面,曹阳没有说任何内容。

因为只要华夏厂家能够生产的设备,成本肯定是比国际设备巨头要便宜一大截的。

现在购买一台蚀刻机要5000万的话,那么中微半导体肯定是2500万可以搞定的。

“28纳米的蚀刻机,我们现在就已经研发出来了,最晚在今年内就具备量产的水平,明年上半年就可以正式的交付给南山半导体使用。”

“与此同时,我准备跳过14纳米的蚀刻机技术,直接研发7纳米的蚀刻机。”

“到时候我们的蚀刻机在今后十年内都不会过时,只需要进行一些技术升级和降成本的活动就行了。”

尹志强对蚀刻机的发展显然是非常有信心的。

“蚀刻机的生产难度虽然不是所有设备中最难的,但也是技术含量很高的,直接跳过14纳米的话,会不会太有挑战性了?”

曹阳虽然希望尹志强能够轻松的完成自己说的方案。

不过还是忍不住多关心了几句。

“曹总,要理解这个方案的可能性,就要涉及到蚀刻技术的工作原理了。”

“我先跟你好好唠叨一下。”

尹志强显然是准备展现一下自己的专业水平,让曹阳相信中微半导体可以搞定更加先进的蚀刻机。

“刻蚀技术可以分为两类,一是使用液态化学品的湿法刻蚀,让硅片在强酸强碱的泡澡淋浴中定量减肥。”

“二是使用气体等离子体的干法刻蚀,让硅片在化学气体的离子轰击下局部瘦身。”

“其中湿法刻蚀的技能早就被人类点亮,比如中世纪的欧洲人,会用酸性溶液,在金属盔甲上蚀刻雕花。”

“明代的《格古要论》中也有记载:凡刀剑器,打磨光净,用金丝矾矾之,其花纹则见。”

“明朝人说的金丝矾就是一种硫酸盐,因此当历史进入集成电路的时代,工程师们首先想到的也是利用各种酸碱的腐蚀性,来大规模地刻出芯片,制程工艺中的刻蚀之名,由此产生。”

“刻蚀中有三个关键指标:刻蚀速率,选择比和方向性。”

“其中刻蚀速率指的是物质被溶解的速度,通常用每分钟损失多少微米的厚度来计量。”

“在芯片制程中,一个部位的刻蚀深度,通常是用刻蚀时长来控制的,因此保证一个精确且恒定的刻蚀速率非常重要,而这对于刻蚀液的纯度,配比,和浓度变化的要求很高。”

“基于化学反应的湿法刻蚀,只能尽量减少横向刻蚀,完全的各向异性它做不到。”

“在芯片制程的早期,器件结构比较粗糙,线宽间距也够大,刻蚀方向性差一点,问题还不大。”

“但随着制程进入次微米级,湿法刻蚀就跟不上芯片的精度要求了,逻辑电路自然不用说,关键层需要纳米级的精密刻蚀,即便像DRAM之类相对粗糙的存储芯片,要刻出里面又窄又深的电容沟槽,也需要方向感极强的雕刻方法,这就是干法刻蚀。”

“湿法用的是液体,干法用的则是气体,芯片厂每天消耗很多特种气体,其中很大一部分就用于刻蚀。”

“这些气体在精确配比后,被通入反应腔内,再用电容或电感耦合的方式,让气体完全或部分电离,形成等离子体或离子束,经过电场加速,射向硅片进行刻蚀,这是一种兼具物理与化学属性的雕刻方式。”

“主流的芯片制程中,超过90%的芯片刻蚀都是干法,因为它的方向性好,气体配比和射频电源也能实现更精密的调控。”

“至于缺点,抛开技术的复杂度不谈,主要有两个,一个是贵,一个是慢。”

“一台进口刻蚀机的价格,数百万美元,那比光刻机是便宜多了,但是不同介质的刻蚀,需要买不同的刻蚀机。”

“而且工艺中,刻蚀的时长远超光刻,毕竟人家是用光来刻嘛。”

“因此产线上一台光刻机,要配多台刻蚀机,按照设备总成本来计算,两者的开销差不多。”

“相比光刻机对光线的精确控制,蚀刻机更多的是需要对气体进行精确控制,两者的精度要求虽然差不多,但是生产难度却是完全不同的。”

“光刻机里头,光学系统的加工难度是非常高的,特别是里面的镜片,国内还真是很难找到符合要求的厂家。”

“你找蔡司购买的话,人家不一定会卖给你跟阿斯麦一个水平的产品。”

“但是蚀刻机的话,我们不需要这么复杂的东西,只要设备设计的足够精妙,零件的加工精度可以符合要求,就有希望生产出能够加工7纳米的蚀刻机出来。”

尹志强解释了一大顿,曹阳听懂了一部分。

不过他不担心!

原本没有南山集团帮忙,中微半导体都能很快的突破各种蚀刻机技术,最终5纳米的蚀刻机还成功的供应给了台积电等厂家。

现在有了南山集团帮忙,没有理由研发的进度反而变慢了。

也就是说尹志强说的方案,是可行的。

“尹总,那蚀刻机这部分,就完全交给中微半导体了。”

“明年我们是只需要28纳米的蚀刻机就行了。”

“后年也许新量产的芯片工厂也还是使用28纳米的工艺。”

“但是再往后就会去挑战14纳米的工艺,到时候现在的蚀刻机就不能满足要求了。”

14纳米对于芯片行业来说是一个非常重要的指标。

很多芯片企业能够快速的跟上28纳米的研发速度,但是继续提升的时候,不少企业就开始掉队了。

因为从28纳米进化到14纳米的时候,所有的生产设备基本上都是需要更新换代。

而那么先进的芯片技术,并不是所有的消费电子产品都需要。

也就是说这个芯片技术太高端,到时候芯片的销量不会很高。

本来高端的芯片价格就高,销量还不好的话,价格就更高了。

到时候直接进入到恶性循环当中。

一些厂家,哪怕是还有一定的实力去挑战,也不敢轻易的冒险了。

到时候基本上就会把芯片厂家分为两个类型,一个是掌握了14纳米甚至更高技术的厂家。

一个是只能掌握28纳米及其以下技术的厂家。

华夏九成的芯片需求,肯定都是可以用28纳米的技术来满足的。

但是你要是不具备14纳米或者更先进的芯片技术,到时候那1成搞不定的芯片,采购金额也许就能顶得上其他九成的芯片金额。

那些芯片巨头,就能那么黑!

所以更先进的芯片技术,南山半导体肯定是要去挑战的。

甚至现在都已经是这个局面了,曹阳准备14纳米工艺搞出来之后,直接给大家放个卫星,建设全球第一座7纳米工艺的芯片工厂。

到时候得局面,估计就很有意思了。

封锁不住的情况下,美利坚会采取什么方案呢?

每年不需要花费几千亿美元进口芯片,华夏的经济是不是可以呈现出完全不同的发展速度?

“曹总,你放心!”

“我们中微半导体的蚀刻机,一定不会拖累南山半导体的发展速度。”

“到时候我们的芯片设备联盟,一定能成为全球技术最先进的设备厂家联合体。”

做设备,最怕的就是没有销量。

那样子天天吃老本,谁也撑不住。

中微半导体的产品现在南山半导体会大量采购,尹志强没有了后顾之忧,就可以全身心的投入到设备研发中去。

那个效率,绝对是不可同日而语的。

很快的,中微半导体就会成为仅次于南山设备的国产芯片设备巨头!