第一四七五章 nm光刻机(1/2)
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“邓院长,我代表京城半导体公司,奖励研发部500万元。”
啪啪……
8月15日,接到总经理魏建国的电话,京城光刻机研究院研发成功了90nm制程工艺光刻机,孙健非常高兴,第二天上午就乘飞机从江城来到京城,在京城光刻机研究院会议室接见了包括院长邓国辉院士、副院长欧阳明院士、副院长陈伟长院士、光刻机自动化研究所所长夏季常院士在内的200多名90nm制程工艺光刻机研发部的研发人员。
京城光刻机研究院在不到一年的时间内研发成功90nm光刻机,厚积薄发,孙健不会感到惊讶,经过近9年的快速发展,加上舍得投资,京城光刻机研究院下属10家研究所(部)人才济济,国内近八成的顶尖光刻机人才都在这里。
京城半导体公司拥有4名光刻机专业顶尖的院士,教授、研究员、教授级工程师近百人,这在国内科研院所和公司中都是绝无仅有的事情。
如今没有专业博士文凭,很难进入京城光刻机研究院。
1998年9月,GcA和Nikon先后研发成功90nm制程工艺的光刻机;2000年8月,Intel、Ibm、It、Amd、hp各自投资25亿美元(包括基建费用)建设的一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线先后量产。
2000年,ASmL、canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机。
1999年,pGcA半导体公司申请从GcA购买一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线,但遭到美国商务部否决,重新申请购买一条12英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线,3个月后才批准,2000年12月7日,这条生产线才量产。
得陇望蜀!
2000年12月底,孙健怂恿中村三郎代表曙光东芝晶圆公司,从东芝公司引进一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线,但遭到日本半导体协会拒绝;曙光东芝晶圆公司花费15亿美元(包括从bSEc采购40台250nm制程工艺的光刻机)从日本引进了一条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线,如今还处于设备安装阶段,9月下旬试生产。
国内有了二条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线,台积电、三星都只有一条。
京城半导体公司(bSEc)研制成功的90nm制程工艺的光刻机虽然比GcA和Nikon晚了近三年的时间,比ASmL、canon、SVG晚了一年多的时间,但已经是一项了不起的成就。
美西方国家禁止出口最先进的技术和生产线给国内,孙健多次遭遇“有米无锅”的局面。
1993年3月,孙健奉命接手工业部四十五所、中K院微电子研究中心和中K院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂,组建bSEc,bSEc生产的光刻机,制程工艺同GcA和Nikon相比,相差四代,落后20年都不止!
bSEc同中K院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂、金城金属气体厂等97家科研院所和公司长期保持合作关系,联合开发单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术攻关项目。
半导体产业发展日新月异,要不是全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了,GcA和Nikon早就研制65nm制程工艺,甚至40nm制程工艺的光刻机了。
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